.css-1xsl8rf{width:100%;display:-webkit-box;display:-webkit-flex;display:-ms-flexbox;display:flex;-webkit-align-items:center;-webkit-box-align:center;-ms-flex-align:center;align-items:center;position:relative;overflow:hidden;background:var(--alert-bg);-webkit-padding-start:var(--chakra-space-4);padding-inline-start:var(--chakra-space-4);-webkit-padding-end:var(--chakra-space-4);padding-inline-end:var(--chakra-space-4);padding-top:var(--chakra-space-1);padding-bottom:var(--chakra-space-1);--alert-fg:var(--chakra-colors-orange-600);--alert-bg:var(--chakra-colors-orange-100);font-weight:var(--chakra-fontWeights-semibold);padding-left:var(--chakra-space-4);}.chakra-ui-dark .css-1xsl8rf:not([data-theme]),[data-theme=dark] .css-1xsl8rf:not([data-theme]),.css-1xsl8rf[data-theme=dark]{--alert-fg:var(--chakra-colors-orange-200);--alert-bg:rgba(251, 211, 141, 0.16);}@media screen and (min-width: 48em){.css-1xsl8rf{padding-left:var(--chakra-space-8);}}Bitte aktivieren Sie Javascript um alle Funktionen nutzen zu können und ihre Nutzererfahrung zu verbessern.

Abstract Talk
AT 121

Formation and role of voids in the recovery of sputtered AlN during high temperature annealing

Termin

Datum: 11.10.2022

Zeit: 09:30 – 09:45

Redezeit: 12 Min.

Diskussionszeit: 3 Min.

Ort / Stream:

Session

AlN HT annealing

Themen

Characterization
Growth

Mitwirkende

Leonardo Cancellara (Leibniz-Institut für Kristallzüchtung / DE), Dr. Sylvia Hagedorn (Ferindand Braun Institut gGmbH / DE), Dr. Sebastian Walde (Ferindand Braun Institut gGmbH / DE), Dr. Dominik Jaeger (Evatec / CH), Dr. Martin Albrecht (Leibniz-Institut für Kristallzüchtung / DE)