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Enhancing dislocation annihilation in high-temperature-annealed AlN templates by ion implantation

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Mitwirkende

Christoph Margenfeld (Technische Universität Braunschweig / DE), Lukas Peters (Technische Universität Braunschweig / DE), Jan Krügener (Leibniz Universität Hannover / DE), Carsten Ronning (Friedrich Schiller Universität Jena / DE), Dr. Jana Hartmann (Technische Universität Braunschweig / DE), Prof. Dr. Andreas Waag (Technische Universität Braunschweig / DE)

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