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Poster Presentation
PP 350

Highly crystalline AlN by physical vapor deposition with NH3 sputtering gas as potential seed layer for power electronic device applications

Termin

Datum: 12.10.2022

Zeit: 12:00 – 12:00

Redezeit: 0 Min.

Diskussionszeit: 0 Min.

Ort / Stream:

Topic Growth

Session

Growth

Themen

Characterization
Growth

Mitwirkende

Dr. Jana Ligl (Evatec AG / CH), Dr. Bernd Heinz (Evatec AG / CH)