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Invited Talk
IT 14
Selective-area p-type doping by ion implantation with ultra-high-pressure annealing and its device applications
Invited Speaker
Professor Tetsu Kachi
Nagoya University / JP
Termin
Datum:
11.10.2022
Zeit:
08:30
–
09:00
Redezeit:
25 Min.
Diskussionszeit:
5 Min.
Ort / Stream:
Salon Rome
Session
Ion implantation and annealing
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